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申请审批流程

依据法，发明申请的审批程序包括受理、初审、公布、实审以及授权五个阶段。实用新型或者外观设计申请在审批中不进行早期公布和实质审查，只有受理、初审和授权三个阶段。

发明、实用新型和外观设计的申请、审查流程图如下：

申请相关事项介绍

1.申请的提交形式

　　申请人应当以电子形式或者书面形式提交申请。

　　（1）申请人以电子文件形式申请的，应当事先办理电子申请用户注册手续，通过局电子申请系统向局提交申请文件及其他文件。

　　（2）申请人以书面形式申请的，可以将申请文件及其他文件当面交到局的受理窗口或寄交至“国家1知识产权局局受理处”（以下简称局受理处），也可以当面交到设在地方的局代办处的受理窗口或寄交至“国家1知识产权局局×××代办处”。

　　目前局在北京、沈阳、济南、长沙、成都、南京、上海、广州、西安、武汉、郑州、天津、石家庄、哈尔滨、长春、昆明、贵阳、杭州、重庆、深圳、福州、南宁、乌鲁木齐、南昌、银川、合肥、苏州、海口、兰州、太原等城市设立代办处

申请相关事项介绍

　2.申请应当提交哪些申请文件

　　（1）申请发明的，申请文件应当包括：发明请求书、说明书摘要（必要时应当提交摘要附图）、权利要求书、说明书（必要时应当提交说明书附图）。

　　涉及氨基酸或者核苷酸序列的发明申请，说明书中应当包括该序列表，把该序列表作为说明书的一个单独部分提交，并单独编写页码，同时还应提交符合国家1知识产权局局（以下简称局）规定的记载有该序列表的光盘或软盘。

　　依赖遗传资源完成的发明创造申请的，申请人应当在请求书中对遗传资源的来源予以说明，并填写遗传资源来源披露登记表，写明该遗传资源的直接来源和原始来源。申请人无法说明原始来源的，应当陈述理由。

　　（2）申请实用新型的，申请文件应当包括：实用新型请求书、说明书摘要及其摘要附图、权利要求书、说明书、说明书附图。

　　（3）申请外观设计的，申请文件应当包括：外观设计请求书、图片或者照片（要求保护色彩的，应当提交彩色1图片或者照片）以及对该外观设计的简要说明。

　3.申请文件使用统一制定的表格

　　申请文件应当使用局统一制定的表格。这些表格可以从国家1知识产权局网站下1载，或者在局受理大厅的咨询处索取或以信函方式索取（信函寄至：国家1知识产权局局初审及流程管理部发文处），也可以向各地的国家1知识产权局局代办处（以下简称局代办处）索取。一张表格只能用于一件申请。

　　申请文件的纸张质量应当相当于复印机用纸的质量。纸面不得有无用的文字、记号、框、线等。各种文件一律采用A4尺寸（210毫米×297毫米）的纸张。申请文件的纸张应当单面、纵向使用。文字应当自左向右排列，纸张左边和上边应当各留25毫米空白，右边和下边应当各留15毫米空白。

　4.提交申请时如何排列申请文件

　　发明或者实用新型申请文件应当按照下列顺序排列：请求书、说明书摘要、摘要附图、权利要求书、说明书（含氨基酸或核苷酸序列表）、说明书附图。　　　

　　外观设计申请文件应当按照下列顺序排列：请求书、图片或照片、简要说明。申请文件各部分都应当分别用阿拉伯数字顺序编写页码。

　　5.申请文件的文字和书写要求

　　申请文件各部分一律使用中文。外国人名、地名和科技术语如没有统一中文译文，应当在中文译文后的括号内注明原文。申请文件都应当用宋体、仿宋体或楷体打字或印刷，字迹呈黑色，字高应当在3.5～4.5毫米之间，行距应当在2.5～3.5毫米之间。申请文件中有附图的，线条应当均匀清晰，不得涂改。不得使用工程蓝图作为附图。

　　6.证明文件

　　办理申请相关手续要附具证明文件的，各种证明文件应当由有关主管部门出具或者由当事人签署。各种证明文件应当是原件；证明文件是复印件的，应当经公证或者由出具证明文件的主管部门加盖公章予以确认（原件在局备案确认的除外）。申请人提供的证明文件是外文的，应当附有中文题录译文。

　　7.签字或者盖章

　　向局提交的申请文件或者其他文件，应当按照规定签字或者盖章。其中未委托代理机构的申请，应当由申请人（或权人）、其他利害关系人或者其代表人签字或者盖章，办理直接涉及共有权利的手续，应当由全体权利人签字或者盖章；委托了代理机构的，应当由代理机构盖章，必要时还应当由申请人（或权人）、其他利害关系人或者其代表人签字或者盖章。

　　8.同日申请说明

　　同一申请人同日对同样的发明创造既申请实用新型又申请发明的，应当在申请时分别说明。

　　9.申请内容的单一性要求

　　一件发明或者实用新型申请应当限于一项发明或者实用新型。属于一个总的发明构思的两项以上的发明或者实用新型，可以作为一件申请提出。一件外观设计申请应当限于一项外观设计。同一产品两项以上的相似外观设计，或者用于同一类别并且成套出售或者使用的产品的两项以上的外观设计，可以作为一件申请提出。

2016年工业品外观设计五局合作联合声明

2016年11月1至2日，欧盟知识产权局（EUIPO）、日本特许厅（JPO）、韩国特许厅（KIPO）、中国国家1知识产1权局（SIPO）和美国商标局（USPTO）（以下简称“五局”），齐聚在中国北京召开2016年工业品外观设计五局合作（ID5）年度会议。世界知识产权组织（WIPO）作为观察员应邀参会。

　　本次会议重申了五局在2015年首届ID5年度会议上通过的合作目标，包括进一步促进和推动形成而且通用的外观设计保护体系。

　　认识到向用户和公众提供更好服务、进一步推动外观设计领域的重要性，认识到五局深化合作对于形成切实成果的重要意义，认识到增强合作透明度的必要性，五局进一步就合作总体原则和合作领域达成一致，以确保ID5目标的实现。

　　五局决定，在协商一致的原则下，通过以开展项目为主的方式继续进行合作，确保合作成果惠及利益相关方、合作局及其工业品外观设计体系。

　　五局决定在工业品外观设计的多个方面开展合作，包括审查实践研究、自动化支持系统、外观设计分类、质量提升、数据统计等，并就新兴技术及有关外观设计新议题共同探索可能的解决方案。

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